单晶圆工艺工具提供多功能的自主工艺能力,具有纳米级的粒子控制,建立在高效的小占地面积上,涵盖晶圆尺寸达 300 毫米、薄晶圆、ics、mems、led、光掩模和玻璃基板,使用各种工艺化学品。
主要特点
化学品和晶圆消耗量低
占地面积小
3、层堆叠
4、通过优化的机器人和过程校准实现最佳性能
5、更高的安全标准
6、改进的最小晶圆接触
7、改进的化学控制稳定性
8、改进的排气压力控制稳定性
9、通过伺服电机改进杯层控制
10、易于维护
11、晶圆尺寸最大 12″ (300 mm)
基材:
晶圆、mems、光电、光掩模、玻璃基板
材质配置:
si、sic、gan、gaas、蓝宝石、玻璃、石英
化学湿法工艺
1、sc1 , sc2
2、hf, boe, hcl, hf/hno3, dsp
3、溶剂
4、根据要求提供其他
重要技术特点
1、模块化设计的最大灵活性
2、精确的流量控制
3、改进的蚀刻均匀性
4、无烟(废气由单独的化学区域分开并自动控制)
5、工艺室清洁系统
6、化学回收系统降低成本
7、各种清洁系统:声波、纳米喷雾、刷子
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