为什么都抢着买价格更昂贵的EUV光刻机?
光刻机是芯片制造过程中，所需的最核心设备，光刻机的精度决定着芯片的上限。
目前，还有asml有能力生产最先进的euv光刻机，三星、台积电都是asml的客户。但受《瓦森纳协定》的制约，中国大陆没有从asml买来一台euv光刻机。
在2020年11月的世博会上，asml展示了duv光刻机。该duv光刻机可以生产7nm芯片，中国可以从asml采购，且不受美国制约。
那么，既然duv光刻机能销往中国，也能制造7nm，为什么都抢着买价格更昂贵的euv光刻机？
首先，二者所用的准分子激光束不同，造成精度不同。
在芯片制造过程中，euv光刻机采用的是极紫光源，波长为13.5nm，光束功率更强，精度也更高。
可以轻松制造出7nm芯片，甚至5nm、3nm。
而duv光刻机则采用的准分子深紫外光源，干式光刻技术最高能实现157nm波长；浸没式光刻技术能实现193nm，等效134nm的波长。duv光刻机与euv光刻机的差距一目了然。
在曝光过程中，波长更长的duv光刻机光束散射、折射更多，这影响了其精度效率。
因而，duv光刻机虽能实现7nm，但效果并不如euv光刻机理想。
其次，光刻机波长决定着光刻技术的分辨率套刻精度。
频率高、波长短的光束透镜补偿更直接，因而良品率更高，并且精度上限更高。euv光刻机能实现7nm，甚至是5nm、3nm。
而duv光刻机则需要多次曝光之后，才能实现7nm，无法继续提高精度，并且多次曝光使得制造芯片的成本更高。
因此，荷兰duv光刻虽然能制造7nm，但euv光刻机是最佳选择。
中芯国际追求euv光刻机之路
前段时间中芯国际“内讧”风波时，在网传梁孟松辞职信中有提到，中芯国际已经攻克的5nm、3nm关键技术，只等euv光刻机。不难看出euv光刻机的重要性。
若是中国能买到一台euv光刻机，那中国芯片产业将实现一次大跨越。
因此，中芯国际一直想要买到一台euv光刻机。2018年，中芯国际曾从asml买到了一台euv光刻机，荷兰政府也向asml发放了出口许可。
然而，就在等待交付的时间里，发生了一系列的变化，美国向荷兰政府施压、asml主要元件供应商工厂起火等等。最终，中芯国际至今没有收到这台euv光刻机。
近来有消息称，中芯国际将就euv光刻机问题，同asml进行谈判。这一次，中芯国际能否迎来euv光刻机，就让我们拭目以待。
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而duv光刻机则需要多次曝光之后，才能实现7nm，无法继续提高精度，并且多次曝光使得制造芯片的成本更高。
因此，荷兰duv光刻虽然能制造7nm，但euv光刻机是最佳选择。
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因此，中芯国际一直想要买到一台euv光刻机。2018年，中芯国际曾从asml买到了一台euv光刻机，荷兰政府也向asml发放了出口许可。
然而，就在等待交付的时间里，发生了一系列的变化，美国向荷兰政府施压、asml主要元件供应商工厂起火等等。最终，中芯国际至今没有收到这台euv光刻机。
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