Mulith将激进光学技术扩展到原位计量
nashua，nh - mulith inc.，声称已经开发出突破性的光刻技术用于图案化目前已推出的0.10微米以下的特征尺寸已将该技术扩展到晶圆计量。
新的光学技术被称为参考分布航空图像形成（见4月25日的故事）。 mulith说它也可以用于原位关键尺寸测量，质量控制，缺陷检查和失效分析
mulith声称其基于激光的计量工具提供的分辨率优于扫描电子显微镜（sem），同时不需要昂贵的发射源，静电透镜，磁物镜，复杂的热传导方法和真空系统。最重要的是，它不会损坏晶圆并首次提供原位功能。
该工具可以对光罩和晶圆进行缺陷测量和检查，无需任何mulith表示，硬件或软件转换的分辨率高于kla-tencor，应用材料公司，horiba公司，lasertec公司，inspex公司和日立公司提供的分辨率，但这些产品都没有提供原位功能。它可以集成到用于缺陷检测的化学机械平面化（cmp）工具中，以补充来自nanometrics和nova measuring systems等公司的原位cmp薄膜厚度工具。
“该工具还可以结合到现有的步进器，步进扫描光刻或用于晶圆对准的mulith rif光刻工具中，”mulith公司总裁greyson gilson说道。“通过rif获得的图像可以转换为电子图像信号并用于反馈回路，以便于实现高精度的光刻过程。“
mulith不打算自己构建rif光刻或计量设备。相反，它正在寻求许可其技术，参与合资企业或出售给资本设备公司。
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