gan 基高电子迁移率场效应管(hemt)在高频大功率器件方面具有突出的优势,并在其应用领域已取得重要进展,但gan基hemt器件大功率应用的最大挑战是其“normally-on”特性。对于传统的algan/gan hemt器件,沿ga面方向外延生长的结构存在较强的极化效应,导致在algan/gan异质结界面处产生大量的二维电子气(2deg),且在零偏压下肖特基栅极无法耗尽沟道中高浓度的二维电子气。
当栅极电压vgs=0时,hemt沟道中仍有电流通过,需要在栅极施加负偏置耗尽栅极下二维电子气,将hemt置于关断状态。这在应用中无疑会增加电路设计的复杂度,同时会使功耗大大增加,因此设计一种在栅极零偏压下处于关断状态的增强型(e-mode)hemt对于推进hemt在功率领域的应用将至关重要。
现如今,有很多方案被提出来获得增强型的hemt器件。其中包括嵌入栅结构、氟离子注入、p型盖帽层、非极性面外延生长以及mos结构等。下表对比了以上几种实现增强型hemt技术方案的优点与技术难点。
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