尼康和ASML以及蔡司达成和解 尼康与ASML将交换未来十年0.8%沉浸式光刻销售收入
在2年前尼康向asml以及其合作伙伴蔡司发起法律诉讼，指二者在未经尼康允许将微影技术用于旗下光刻机，扯皮两年多后，三方总算达成和解。
在2017年4月24日，尼康向asml以及其合作伙伴蔡司发起法律诉讼，指二者未经尼康允许下将微影技术（lithography）用在asml的光刻机当中，要求二者赔偿尼康损失，并停制出售具有该技术的光刻机。
asml随后否认了尼康的指控，并在几天后起诉尼康，指后者在半导体生产设备、平面显示器和数码相机生产设备存在超过10项专利侵权，双方进入扯皮阶段。
在尼康起诉时asml正如日中天，在高端光刻机市场份额超过9成，尼康则在光刻机市场节节败退。只是风水流水，尼康在向中国市场出售光刻机后重振了业务，asml在euv极紫外光技术上举步维艰，intel甚至出售了asml股票。
在这样的背景下，三者终于达成了和解，按照三方谅解备忘录，会撤销在欧洲、日本和美国多地所有法律诉讼，asml、蔡司向尼康支付1.5亿欧元，从最终协议签署当天起，尼康与asml交换未来十年0.8%沉浸式光刻销售收入。
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