继半导体后 韩国将显示专利申请指定为优先审查对象
知识产权机构韩国特许厅31日表示，从11月1日开始的一年时间里，将国内研究开发和生产的显示器领域的专利申请指定为优先审查对象。
其中包括与显示器材料、配件、装备、制造、设计技术直接相关的申请、在国内生产或准备生产显示器相关产品、装备等的企业的申请、与显示器相关的国家研究开发（r&d）事业的成果相关的申请等。
专利厅预计，通过该制度，平均需要16个月左右的一般专利审查周期将减少到平均2个月以内。
与此同时，将于10月31日结束的半导体领域的优先审查对象的指定也将延长1年。如果申请与半导体材料、零部件、装备、制造、设计技术直接相关的专利，就可以优先接受审查。
另外，考虑到在申请优先审查时，很难预测专利分类（cpc）是否合适的情况较多，决定删除现有的半导体相关专利分类条件。
据悉，在显示器领域的国际专利纠纷不断深化的情况下，此举是为了支援韩国企业尽快获得专利。
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与此同时，将于10月31日结束的半导体领域的优先审查对象的指定也将延长1年。如果申请与半导体材料、零部件、装备、制造、设计技术直接相关的专利，就可以优先接受审查。
另外，考虑到在申请优先审查时，很难预测专利分类（cpc）是否合适的情况较多，决定删除现有的半导体相关专利分类条件。
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