中芯国际距离国产7nm芯片更近一步
中芯国际发布公告，公司同阿斯麦上海在今年2月1日签订经修订和重述的asml批量采购协议。
据悉，该协议与duv光刻技术的现有协议相关，订单总代价为12.16亿美元。
荷兰asml兑现承诺
此次协议的达成，表示asml兑现了此前许下的承诺。
2020年，asml曾多次向中国客户示好，显现出希望加大双方合作的意向。
2020年10月份，asml首席财务官罗杰·达森回答“向中国出口光刻机”问题时表示，asml可从荷兰直接向中国出口duv光刻机，而不受美国的限制。
在2020年11月举行的中国进口博览会上，asml也在参展行列，并展示了duv光刻机。
asml中国区总裁沈波表示，公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度，对全球客户一视同仁。
asml的种种言行都透露出，asml想同中国企业加大合作的愿望。而在如今，asml也兑现了承诺，将duv光刻机卖给中芯国际。
duv光刻机与euv光刻机
不过，对于更高端的euv光刻机，asml却始终没有松口。
duv光刻机与euv光刻机在光源、光路系统等方面有所差距，造成了二者在分辨率上的不同。
duv光刻机采用了准分子激光作为光源，为193nm波长的光源。
而euv光刻机则利用激光激发等离子发射euv光子，原理更为复杂，获取条件也更苛刻。不过，euv光刻机的波长也更短，仅为13.5nm。
在光路系统方面，duv光刻机主要利用的光的折射、透镜与晶圆之间使用不同介质可改变光刻性能的特点。
而euv光刻机则利用了光的反射原理，且对环境的要求更为严格，需要真空操作。
尽管euv光刻机各方面都更为复杂，但却能带来更高的分辨率。想要攻克5nm、3nm，离不开euv光刻机的帮助。
因而，为抢占更多的市场，三星、台积电都在争抢更多的euv光刻机。
虽然asml本次出售给中芯国际的并非euv光刻机，令人有些失望。但在duv光刻机的实力也不同小觑，足以生产出7nm芯片。
国产7nm不再遥远
在asml duv光刻机的助力下，中芯国际离7nm更近了一步。
据悉，在今年4月份，中芯国际7nm将进入风险量产阶段。一旦成功，中国芯片自给率无疑将再前进一步。
同时，更多duv光刻机也将助力中芯国际进一步扩产。在全球缺芯危机蔓延的情况下，中芯国际将成为危机的受益者。
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荷兰asml兑现承诺
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2020年10月份，asml首席财务官罗杰·达森回答“向中国出口光刻机”问题时表示，asml可从荷兰直接向中国出口duv光刻机，而不受美国的限制。
在2020年11月举行的中国进口博览会上，asml也在参展行列，并展示了duv光刻机。
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asml的种种言行都透露出，asml想同中国企业加大合作的愿望。而在如今，asml也兑现了承诺，将duv光刻机卖给中芯国际。
duv光刻机与euv光刻机
不过，对于更高端的euv光刻机，asml却始终没有松口。
duv光刻机与euv光刻机在光源、光路系统等方面有所差距，造成了二者在分辨率上的不同。
duv光刻机采用了准分子激光作为光源，为193nm波长的光源。
而euv光刻机则利用激光激发等离子发射euv光子，原理更为复杂，获取条件也更苛刻。不过，euv光刻机的波长也更短，仅为13.5nm。
在光路系统方面，duv光刻机主要利用的光的折射、透镜与晶圆之间使用不同介质可改变光刻性能的特点。
而euv光刻机则利用了光的反射原理，且对环境的要求更为严格，需要真空操作。
尽管euv光刻机各方面都更为复杂，但却能带来更高的分辨率。想要攻克5nm、3nm，离不开euv光刻机的帮助。
因而，为抢占更多的市场，三星、台积电都在争抢更多的euv光刻机。
虽然asml本次出售给中芯国际的并非euv光刻机，令人有些失望。但在duv光刻机的实力也不同小觑，足以生产出7nm芯片。
国产7nm不再遥远
在asml duv光刻机的助力下，中芯国际离7nm更近了一步。
据悉，在今年4月份，中芯国际7nm将进入风险量产阶段。一旦成功，中国芯片自给率无疑将再前进一步。
同时，更多duv光刻机也将助力中芯国际进一步扩产。在全球缺芯危机蔓延的情况下，中芯国际将成为危机的受益者。
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