关于光刻机这些知识您得知道
光刻机不光是制造芯片用。一张平面（不论硅片还是什么材料）想刻出繁复的图案，都可以用光刻——就像照相，图像投在感光底片上，蚀掉一部分。半个多世纪前，美国人用这个原理“印刷”电路，从而有了大规模集成电路——芯片。为了节能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻机越做越极端。线条细到一定程度，投影就模糊了。要清晰投影，线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源，好刻10纳米以下的线条。但稳定的、大功率的极紫外光源很难造，一个得3000万元人民币。要求工作环境严苛，配合的光学和机械部件又极端精密，所以荷兰的asml公司独家垄断极紫外光刻机，创造了“一台卖一亿美金”的神话。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻机，可以说是我国目前还需要进行大力研发的核心科技之一。由于光刻机涉及到的工艺过于复杂和高端，虽然我国一直在做出努力，但依然是很难与世界上的一流企业相比肩。光刻机可以说得上是世界上最难以掌握的现代工业之一了，所以光刻机也被称为现代光学工业之花。
光刻机到底是什么首先我们来看看什么是光刻机。光刻机主要用于芯片的生产，芯片在现代人生活中的作用恐怕没有人不会不知道的。手机、电脑等等的电子设备，离开了芯片就是一堆破铜烂铁，所以没有了光刻机，就制造不出芯片，没有芯片，也就没有手机和电脑。
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