失效分析的基本概念
失效分析是一门发展中的新行学科,这门学科可以应用在很多领域。这里我们主要说的是其在半导体领域的应用。
进行失效分析往往需要进行电气测量并采用先进的物料、冶金及化学手段
失效分析的目的是确定失效模式和失效机理,提出纠正措施,防止这种失效模式或失效机理再次重复出现。
失效模式是指观察到的失效现象、失效形式,如开路、短路、功能失效、参数异常等。
失效机理是指失效的物理化学过程,如疲劳,腐蚀和过应力等。
失效分析的意义
失效分析是确定芯片失效机理的必要手段。
失效分析为有效的故障诊断提供了必要的信息。
失效分析为设计工程师不断改进或者优化芯片的设计,使之与设计规范更加吻合提供必要的反馈信息。
失效分析为设计工程师不断改进或者优化芯片的设计,使之与设计规范更加吻合提供必要的反馈信息。
失效分析可以评估不同测试向量的有效性,为生产测试提供必要的补充,为验证测试流程优化提供必要的信息基础。
失效分析的一般流程
01 首先我们来了解一下应力所导致的芯片失效情况
1、电应力(静电、过压、过流) ->
会导致mos器件的栅极击穿、双极性器件的pn结击穿、功率晶体管的二次击穿、cmos电路的单粒子效应。
2、热应力(高温存储) ->
金属半导体接触的ai-si 互溶,阻抗接触退化, pn结漏电、au-al 键合失效。
3、低温应力(低温存储)->
芯片断裂。
4、低温电应力(低温工作) ->
热载流子注入(热载流子诱生的mos器件退化是由于高能量的电子和空穴注入栅氧化层引起的,注入的过程中会产生界面态和氧化层陷落电荷,造成氧化层的损伤。)
5、高低温应力(反复高低温循环)->
芯片断裂、芯片粘接失效。
6、热电应力(高温工作)->
金属电迁移、欧姆接触退化。
7、机械应力(振动、冲击)->
芯片断裂、引线断裂。
8、辐射应力(x射线、中子辐射)->
电气参数变化,软错误,cmos电阻的闩锁效应。
9、气候应力(高湿、高盐)->
外引线腐蚀、金属化腐蚀、电气参数漂移。
02 收集失效现场数据
了解具体失效现象
了解具体的工作电压、电流
了解具体的静电防护措施
了解具体的工作温度
了解具体的生产操作流程
观察芯片外观是否完好
排查应用电路是否错误
03 电测并确定失效模式
电测失效可分为:连接性失效、电气参数失效、功能失效
连接性失效:包含开路、短路以及电阻值变化。这类失效较容易测试,现场失效多数由静电放电(esd)和电应力 (eos)引起。
电气参数失效:需进行复杂的测量,主要表现形式有参数值超出规定范围和参数不稳定。
功能失效:芯片失去了应有的功能。
03 根据具体失效模式采样不同方法手段进行分析测量
失效分析的一般流程
芯片开盖:去除ic封胶,同时保持芯片功能的完整无损,保证实 die,bond pads,bond wires 乃至lead-frame 不受损伤,为下一步芯片失效分析实验做准备。如下图:
x-ray 无损侦测:检测ic封装中的各种缺陷如层剥离、爆裂、空洞以及打线的完整性,pcb制程中可能存在的缺陷如对齐不良或桥接,开路、短路或不正常连接的缺陷,封装中的锡球完整性。如下图:
1、sem 扫描电镜/edx成分分析->
包括材料结构分析/缺陷观察、元素组成常规微区分析、精确测量元器件尺寸等等。探针测试:以微探针快捷方便地获取ic内部电信号。镭射切割:以微激光束切断线路或芯片上层特定区域。
2、emmi侦测->
emmi微光显微镜是一种效率极高的失效分错析工具,提供高灵敏度非破坏性的故障定位方式,可侦测和定位非常微弱的发光(可见光及近红外光),由此捕捉各种元件缺陷或异常所产生的漏电流可见光。
3、obirch应用(镭射光束诱发阻抗值变化测试)->
obirch常用于芯片内部高阻抗及低阻抗分析,线路漏电路径分析。利用obirch方法,可以有效地对电路中缺陷定位,如线条中的空洞、通孔下的空洞。通孔底部高阻区等,也能有效的检测短路或漏电,是发光显微技术的有力补充。lg液晶热点侦测:利用液晶感测到ic漏电处分子排列重组,在显微镜下呈现出不同于其它区域的斑状影像,找寻在实际分析中困扰设计人员的漏电区域(超过10ma之故障点)。定点/非定点芯片研磨:移除植于液晶驱动芯片 pad上的金凸块, 保持pad完好无损,以利后续分析或rebonding。
sam (sat)超声波探伤:可对ic封装内部结构进行非破坏性检测, 有效检出因水气或热能所造成的各种破坏如:晶元面脱层,锡球、晶元或填胶中的裂缝,封装材料内部的气孔,各种孔洞如晶元接合面、锡球、填胶等处的孔洞。(如下图)
通过多种手段来确定芯片主要失效机理:如电压衬度差像、电应力(eod)损伤、静电放电(esd)损伤、封装失效、引线键合失效 、芯片粘接不良、金属半导体接触退化、钠离子沾污失效、氧化层针孔失效。等等...
end
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