euv光刻机原理是什么
芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由euv光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢？
euv光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流光刻技术，具有效率高、无损伤等优点。
euv光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。
高端投影光刻机可分为两种类型：步进投影光刻和扫描投影光刻。分辨率一般在在10纳米到几微米之间。高端光刻机被誉为世界上最精密的仪器。
本文综合自百度百科、时间财富网
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