氮化镓功率器件的优缺点 氮化镓功率器件的可靠性分析

氮化镓功率器件是一种用于控制电子设备功率的器件,它可以提供高效率、低噪声和高稳定性的功率控制。它们可以用于控制电源、电池充电器、电源管理系统、电源调节器、电源滤波器等应用。
氮化嫁功率器件的特性
1、没有雪崩击穿,一旦击穿,就是永久性的。这类似于电容里面的介质击穿。也正是这样的原因,一般对于650v的器件而言,如果是硅mos管,一般实际击穿电压大约在750v左右,而氮化晟器件需要提供更高的电压裕量,650v器件至少需要900v以上的击穿电压。
2、没有p型氮化嫁管,如果要用氮化嫁做模拟和数字ic,其设计和硅ic差异较大。
3、最大门级电压被限制在了7v,且于现有的硅驱动ic不兼容;第四,虽然gan材料特性远好过硅,且有高电子迁移率的二维电子气,但因受制于横向器件固有的一些问题,其优点并没有得到充分发挥。
氮化镓功率器件的优点
1、具有良好的热稳定性;
2、具有良好的电性能;
3、具有良好的耐压性能;
4、具有良好的耐热性能;
5、具有良好的耐腐蚀性能。
氮化镓功率器件的缺点
1、价格较高;
2、制造工艺复杂;
3、容易受到外界环境的影响。
氮化镓功率器件的可靠性分析
gan晶体管在工作过程中利用具有高载流子密度和高电子迁移率的2d电子气体(2deg)的algan / gan异质结构。在此阶段,可能存在多种技术复杂性,特别是高漏极电压电流崩溃,其中一旦施加高漏极电压,漏极电流就会降低。为了消除这种捕获,已经使用电场释放来解决漏极崩溃问题,以阻止这种捕获,使gan样品可用于开关系统的分析。此外,gan晶体管在蜂窝基站中高频功率晶体管的商业化中也有应用。尽管电压已增加到50v,但系统可以证明晶体管在较高电压下的平稳运行。图2显示了gan晶体管的电流崩溃
图2:gan晶体管的电流崩溃。
栅极注入晶体管的可靠性:algan/gan中的高载流子浓度使得gan晶体管的常关操作略有问题。必须从p栅极注入空穴,以增强通道处电子的形成。这个过程称为电导率调制。这导致低导通电阻和高漏极电流,即使在通常关闭的晶体管中也是如此。栅极注入晶体管(gits)可用作替代品,通过在异质结上放置p型algan栅极来消除此问题。通过这样做,通道在门下完全耗尽。700mnc的低ronqg(ron:导通电阻,qg:栅极电荷)比最先进的超级结si mos小三分之一,具有显着更高的高速开关潜力。脉冲电流-电压 (i-v) 测量用于描述 git 在硅衬底上的电流崩溃。使用关断状态和零偏置状态的栅极电压,以及非常短的漏极脉冲。图 3 显示了 git 的示意图横截面。
图3:git的工作原理/工作原理图

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