韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距
据businesskorea报道，韩国本土企业在euv光刻技术方面取得重大进展。韩国知识产权局（kipo）发布的《过去10年（2011-2020年）专利申请报告》显示，2014年，向韩国知识产权局（kipo）提交的与euv光刻相关的专利申请数量达到88件的峰值，2018年达到55件，2019年达到50件。
特别是，韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年，韩国本土提出的专利申请数量为40件，超过了国外企业的10件。这是韩国提交的专利申请首次超过国外。2020年，韩国提交的申请数量也是国外的两倍多。
过去10年，包括三星电子在内的全球企业进行了密集的研发，以确保技术领先地位。最近，代工公司开始使用5nm euv光刻技术来生产智能手机的应用处理器。
从公司来看，全球六大公司的专利申请数占了总数的59%，卡尔蔡司（德国）18%，三星电子（韩国）15%，asml（荷兰）11%，s&s tech（韩国）8%，台积电（中国台湾）6%，sk海力士（韩国）1%。
从具体技术项目看，工艺技术申请专利占32%，曝光装置技术申请专利占31%，掩膜技术申请专利占28%，其他申请专利占9%。在工艺技术领域，三星电子占39%，台积电占15%。在光罩领域，s&s科技占28%，hoya（日本）占15%，汉阳大学（韩国）占10%，朝日玻璃（日本）占10%，三星电子占9%。
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