Intel放弃FinFET晶体管转向GAA晶体管 GAA工艺性能提升或更明显
intel之前已经宣布在2021年推出7nm工艺，首发产品是数据中心使用的ponte vecchio加速卡。7nm之后的5nm工艺更加重要了，因为intel在这个节点会放弃finfet晶体管转向gaa晶体管。
随着制程工艺的升级，晶体管的制作也面临着困难，intel最早在22nm节点上首发了finfet工艺，当时叫做3d晶体管，就是将原本平面的晶体管变成立体的finfet晶体管，提高了性能，降低了功耗。
finfet晶体管随后也成为全球主要晶圆厂的选择，一直用到现在的7nm及5nm工艺。
intel之前已经提到5nm工艺正在研发中，但没有公布详情，最新爆料称他们的5nm工艺会放弃finfet晶体管，转向gaa环绕栅极晶体管。
gaa晶体管也有多种技术路线，之前三星提到他们的gaa工艺能够提升35%的性能、降低50%的功耗和45%的芯片面积，不过这是跟他们的7nm工艺相比的，而且是初期数据。
考虑到intel在工艺技术上的实力，他们的gaa工艺性能提升应该会更明显。
如果能在5nm节点跟进gaa工艺，intel官方承诺的“5nm工艺重新夺回领导地位”就不难理解了，因为gaa工艺上他们也是比较早跟进的。
至于5nm工艺的问世时间，目前还没明确的时间表，但intel之前提到7nm之后工艺周期会回归以往的2年升级的节奏，那就是说最快2023年就能见到intel的5nm工艺。
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