光刻机是半导体芯片生产过程中的关键设备,光刻机所使用的光源波长直接决定着芯片的工艺级别。例如,目前最先进的芯片制程7nm\5nm等,都离不开euv极紫外光刻机,而这种光刻机的全球唯一供应商就是荷兰阿斯麦asml。
最近, 荷兰阿斯麦 asml 首席财务官 roger dassen 在财报会议的视频采访中谈及与中芯国际等中国客户的业务情况。
roger dassen 表示,如果广泛地来理解美国规章制度对 asml 的总体含义(对于特定的中国客户),则意味着 asml 将能够从荷兰向这些中国客户提供 duv 光刻系统,且无需出口许可证。不过,如果涉及直接从美国运往此类客户的零件或系统,asml 则需要为此申请出口许可证。
21ic家注意到,最近,asml公布了其第三季度财报,在该季度asml一共交付了10台euv系统,并实现了14台系统的销售收入,总销售额达到40亿欧元。同时,第三季度的新增订单达到29亿欧元,其中5.95亿欧元来自4台euv设备。
财报中还公布了其两大系列光刻机产品的最新进展。
其中,在euv光刻业务领域,绝大部分twinscan nxe:3400b系统在客户处同时进行了生产率模组的升级。同时,asml还公布了其euv路线图上的最新机型:twinscan nxe:3600d,该euv光刻机实现了30mj/cm2的曝光能量达到每小时160片晶圆,生产率提高了18%,并改进了机器匹配套刻精度至1.1纳米。该新型euv光刻机预计2021年中期开始发货。
在duv光刻业务领域,asml在本季度对第一台twinscan nxt:2050i进行了质量认证,并于第四季度初发货。nxt:2050i是基于nxt平台的新版本,其中包括掩模版工作台,晶圆工作台,投影物镜和曝光激光器的技术改进。由于采用了这些创新,该系统提供了比其前身更好的套刻精度控制,并具有更高的生产率。nxt:2050i已进入批量生产阶段。
来源:21ic王丽英整理
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