新思科技成为首个获得三星EUV技术5LPE工艺认证的平台
新思科技近日宣布，三星(samsung electronics)认证了新思科技fusion design platform™，用于三星采用euv光刻技术的5纳米low-power early(早期低功耗，简称“lpe”)工艺。人工智能(ai)增强型云就绪fusion design platform提供前所未有的全流程设计实现质量和设计收敛速度，实现三星5lpe工艺技术提供的超高性能和低功耗，加速新一波半导体设计的开发，包括高性能计算(hpc)、汽车、5g和人工智能细分市场。
“7纳米产品的交付以及5纳米工艺开发的成功完成，证明了我们在基于euv节点方面的能力。使用新思科技fusion design platform，我们的共同客户将能够设计出最具竞争力的5lpe系统级芯片(soc)产品，以满足超高性能和低功耗应用的需求。新思科技仍然是我们的首选厂商，在新节点开发和实现方面开展合作，因此我们的代工厂客户可以放心地在所有细分市场(包括汽车、人工智能、高性能计算和移动)提升他们的设计。”
——jy choi
三星设计技术团队副总裁
三星代工厂使用64位arm® cortex®-a53和cortex-a57处理器设计(基于armv8架构)为fusion design platform提供了认证。
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