据麦姆斯咨询报道,近日,长春光机所王立军院士团队在《中国光学》期刊上发表了题为“长春光机所高速垂直腔面发射激光器研究进展”的最新论文,团队通过优化vcsel外延设计和生长、器件设计和制备、以及性能表征技术,在多个波长的高速vcsel的调制带宽、传输速率、模式、功耗等性能方面取得了显著进展。
摘要:高速垂直腔面发射激光器(vcsel)是高速光通信的主要光源之一,受数据流量的迅速增长牵引,高速vcsel正向更大带宽、更高速率方向发展。长春光机所团队通过优化vcsel外延设计和生长、器件设计和制备、以及性能表征技术,在多个波长的高速vcsel的调制带宽、传输速率、模式、功耗等性能方面取得了显著进展。实现高速单模940nm vcsel 27.65ghz调制带宽和53gbit/s传输速率;通过波分复用基于850nm、880nm、910nm和940nm高速vcsel实现200gbit/s链路方案;通过光子寿命优化,实现高速vcsel低至100fj/bit的超低能耗;实现1030nm高速vcsel 25ghz调制带宽;实现1550nm高速vcsel 37gbit/s传输速率。研制的高速vcsel在光通信等领域有重要应用前景。
引言
随着流媒体、云计算、区块链等新兴消费和社交媒体的出现,互联网流量以每年约60%的速度大幅增长,远远超过思科(cisco)公司预测。垂直腔面发射激光器(vcsel)具有阈值电流低、量子效率高、调制带宽高、能耗低等优点,基于vcsel和多模光纤(mmf)是数据传输的重要组成部分。数据流量的迅速增长牵引vcsel向更大带宽、更高速率、更低能耗方向发展。
在高速vcsel调制带宽方面,查尔姆斯理工大学(cut)、伊利诺伊大学厄巴纳-香槟分校(uiuc)、finisar等多个研究组都实现了850nm vcsel近30 ghz的调制带宽。cheng c l、haghighi n、simpanen e在940nm、980nm和1060nm波长高速vcsel研究方面,也分别实现了类似的指标。在高速vcsel传输速率方面,kuchta d m等人采用前馈均衡驱动实现不归零码(nrz-ook)调制下71gb/s数据传输。4电平脉冲幅度调制(pam4)可进一步提升传输速率,并可通过均衡和前向纠错进一步提升传输速率至200gbit/s。通过波分复用(wdm),可大大增加光链路的容量和传输速率。单模vcsel可延长传输距离至2000m以上。在能耗方面,moser p实现了56fj/bit@25gb/s的超低能耗。
面向高速光通信需求,研究人员从高速vcsel带宽限制机理和提升方法出发,通过优化vcsel外延设计和生长、器件设计和制备以及性能表征技术,在多个波长高速vcsel的调制带宽、传输速率、模式、功耗等性能方面取得了显著进展,可满足不同应用场景。本文接下来第二部分将介绍带宽限制因素和提升方法;第三部分介绍本课题组高速vcsel的研究进展;第四部分进行总结。
高速vcsel带宽限制因素
氧化限制型高速vcsel截面示意图如图1所示。其主要包括有源区,p-和n-布拉格反射镜(dbr),单层或多层氧化孔,苯丙环丁烯(bcb)填平材料,p-、n-电极和共面电极。有源区可为量子阱或量子点。dbr由两种具有不同折射率、每层厚度为四分之一波长的材料交替生长组成;氧化孔可通过湿法氧化高al组分的氧化层制备。
图1 氧化限制型高速vcsel截面示意图
vcsel的频率响应可以用传输函数来表征,
为了提高调制带宽,需要增大驰豫振荡频率,减小阻尼因子和增大寄生截止频率。
。..。.. 高速1030nm vcsel
相比于850nm波长vcsel,1030nm波长vcsel在光纤传输中的色散和衰减大大降低,有利于提高传输距离。此外,1030nm vcsel可应用于850−1060nm波段(间隔30nm)的wdm,提高光纤链路的通信容量和传输速率。
本课题组采用应变ingaas/gaasp量子阱、λ/2短光腔和6层氧化物孔设计,提高纵向光限制因子、降低寄生电容,提高vcsel的3db带宽。研制的高速1030nm vcsel模拟、测试表征结果如图2所示。
图2 (a)设计的vcsel折射率分布和驻波场分布;(b)氧化后的vcsel截面sem;(c)1030nm vcsel l-i-v;(d)1030nm vcsel光谱;(e)25℃条件下1030nm vcsel小信号响应;(f)85℃条件下1030nm vcsel小信号响应
高速1550nm vcsel
1550nm vcsel在光纤中传输损耗小,更适合于长距离光纤传输。目前,1550nm vcsel技术还不成熟:与长波长有源区相比配的高反射率和低电阻的dbr难以生长,有效电流限制层难以制备、热问题显著。晶圆熔合(wf)技术为高性能dbr难以形成的问题提供了解决方案。在inp衬底上生长有源区,在gaas衬底上生长热性能好的dbr,然后通过晶圆熔合技术将它们结合在一起,从而获得腔长较短、散热性能较好的1550nm vcsel。此外,掩埋隧道结(btj)结构可减少长波长vcsel的热效应,并实现对电流的限制。俄罗斯itmo大学的l.karachinsky团队通过晶圆融合和btj技术制备了1550nm vcsel。
我们与karachinsky团队合作,在室温、6ma偏置电流和1v调制电压条件下,提高1550nm vcsel传输速率至37gbit/s(3m单模光纤),在误码率ber=10−12下眼宽0.25ui(6.75ps),总抖动75%(20.27ps),如图3所示。
图3(a)高速1550nm vcsel传输眼图;(b)高速1550nm vcsel浴盆曲线。btj为6μm。
结束语
通过优化vcsel外延设计和生长、器件设计和制备、以及性能表征技术,在多个波长的高速vcsel的调制带宽、传输速率、模式、功耗等性能方面取得了显著进展。实现了高速单模940nm vcsel 27.65ghz调制带宽和53gbit/s传输速率;通过波分复用基于850nm、880nm、910nm和940nm高速vcsel实现了200gbit/s链路方案;通过光子寿命优化,实现了高速vcsel低至100fj/bit的超低能耗;实现了1030nm高速vcsel 25ghz调制带宽;实现了1550nm高速vcsel 37gbit/s传输速率。研制的高速vcsel在高速光通信等有重要应用前景。
本研究获得了国家重点研发计划(no. 2021yfb2801000,no. 2018yfb2201000)、国家自然科学基金(no. 61774156,no.62174159,no. 62061136010)、中国科学院青年创新促进会(no. 2018249)、中德科学中心合作交流项目(no. m0386)、吉林省国际合作项目(no. 20210402055gh)的支持。
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